林本坚
林本坚 （1942年—），中華民國學者、中央研究院院士，現任国立清华大学特聘研究講座教授、半導體研究學院院長、台積電-清大聯合研發中心主任，越南西貢堤岸（今胡志明市）人，籍貫廣東潮安，曾任台積電研發副總經理，與楊光磊、蔣尚義、孫元成、梁孟松、余振華等人並稱“台積電研發六騎士”[1]。
| 林本堅 | |
|---|---|
 | |
| 出生 | 1942年（81—82歲） 越南西貢堤岸 |
| 教育程度 | 俄亥俄州立大学电机工程学博士 |
| 头衔 | |
| 奖项 | |
生平
编辑1942年，出生于法屬越南西貢堤岸的海外華僑家庭，在當地的中華民國僑校完成小學、中學至高二。1959年起當地局勢緊張，後以越籍僑生身分來台，插班进入臺灣省立新竹中學高中三年級，後來在未以僑生身份加分的原始總分424分，錄取當年最低錄取分數423分的国立台湾大学電機工程學系，並於1963年畢業，后留学美国深造，雖獲柏克萊加州大學錄取，但因女友的關係，留在俄州並於1970年毕业于俄亥俄州立大学获得电机工程学博士。[2][3]后任职于IBM，1984年担任研发部经理。[4][5] 1992年，从IBM提前退休并同年创立领创公司担任总经理。2000年，回到台湾加入台积电。[6]2002年，擔任研發處長時，以浸潤式微影技術，成功把摩爾定律推進六個世代，被譽為“浸潤式微影之父”、“半導體界愛因斯坦”[7]，後該技術為ASML看重並得到採用，2015年从台积电退休后，担任国立清华大学特聘研究講座教授、半導體研究學院院長。[8][9]他同時本身是一位虔誠的基督徒。[10]
荣誉
编辑参考来源
编辑- ^ 專挑對手讓台積電痛…研發六騎士到梁孟松的恨18年前照見證歷史. [2023-09-14]. （原始内容存档于2023-09-19）.
- ^ 蒙天祥. 僑生之光 林本堅榮膺中研院院士 (pdf). 僑協雜誌 (華僑協會總會). 2014年9月, (148): 37–39 [2021-01-22]. ISSN 1029-3167.
- ^ 3.0 3.1 ECE Alum Burn Lin receives IEEE Jun-ichi Nishizawa Medal. Ohio State University. 30 April 2013 [2 December 2018]. （原始内容存档于2021-01-26）.
- ^ Burn J. Lin (1987). "The future of subhalf-micrometer optical lithography". Microelectronic Engineering 6, 31–51
- ^ 5.0 5.1 Handy, Jim. Father of Immersion Litho Receives Award. Forbes. 26 June 2013 [2 December 2018]. （原始内容存档于2019-03-08）.
- ^ Biography: Burn J. Lin. Semiconductor Research Corporation. [2 December 2018]. （原始内容存档于2019-02-26）.
- ^ 浸潤式微影之父林本堅蝸居鞋盒辦公室作育人才| 產經. [2023-09-14]. （原始内容存档于2023-10-29）.
- ^ 8.0 8.1 8.2 Semiconductor Pioneer Burn Lin Joins NTHU. National Tsing Hua University. 2016 [2 December 2018]. （原始内容存档于2018-12-03）.
- ^ TSMC Burn Lin Academic Salon. 2016 [2 December 2018]. （原始内容存档于2018-12-03）.
- ^ 存档副本. [2021-03-16]. （原始内容存档于2021-01-21）.
- ^ Dr. Burn Jeng Lin. United States National Academy of Engineering. [2 December 2018]. （原始内容存档于2018-12-03）.